ബ്രൂവറി ക്ലീൻ-ഇൻ-പ്ലേസ് (സിഐപി) സിസ്റ്റങ്ങൾക്കായുള്ള ഡിസൈൻ തത്വങ്ങൾ

CIP സിസ്റ്റങ്ങൾക്കായുള്ള ഡിസൈൻ പരിഗണനകൾ

 ഒരു സിഐപി സിസ്റ്റം രൂപകൽപ്പന ചെയ്യുമ്പോൾ, സിസ്റ്റം ഉദ്ദേശിച്ച രീതിയിൽ പ്രവർത്തിക്കുമെന്ന് ഉറപ്പാക്കാൻ നിരവധി ഡിസൈൻ ആവശ്യകതകൾ മനസ്സിൽ സൂക്ഷിക്കേണ്ടതുണ്ട്.ചില പ്രധാന ഡിസൈൻ പരിഗണനകളിൽ ഉൾപ്പെടുന്നു.

 ►സ്ഥല ആവശ്യകതകൾ: ലോക്കൽ കോഡുകളും മെയിൻ്റനൻസ് സ്പെസിഫിക്കേഷനുകളും പോർട്ടബിൾ, സ്റ്റേഷണറി സിഐപി സിസ്റ്റങ്ങൾക്ക് ആവശ്യമായ ഇടം നിർദ്ദേശിക്കുന്നു.

 ►ശേഷി: അവശിഷ്ടങ്ങൾ നീക്കം ചെയ്യുന്നതിനും സൈക്കിൾ സമയം കുറയ്ക്കുന്നതിനും ഫലപ്രദമായി ഫ്ലഷിംഗിനും ആവശ്യമായ ഒഴുക്കും സമ്മർദ്ദവും നൽകാൻ CIP സിസ്റ്റങ്ങൾക്ക് മതിയായ വലിപ്പം ഉണ്ടായിരിക്കണം.

 ►യൂട്ടിലിറ്റി: ട്രീറ്റ്മെൻ്റ് ബ്രൂവറി ഉപകരണങ്ങൾക്ക് CIP സിസ്റ്റം പ്രവർത്തിപ്പിക്കുന്നതിന് ആവശ്യമായ യൂട്ടിലിറ്റി ഉണ്ടായിരിക്കണം.

 ►ഊഷ്മാവ്: ചികിത്സാ സംവിധാനത്തിൽ പ്രോട്ടീനുകൾ ഉണ്ടെങ്കിൽ, പ്രോട്ടീനിനെ നിർവീര്യമാക്കാതെ കഴിയുന്നത്ര പ്രോട്ടീൻ നീക്കം ചെയ്യപ്പെടുന്നതിന് ആംബിയൻ്റ് താപനിലയിൽ പ്രീ-വാഷ് പ്രവർത്തനങ്ങൾ നടത്തണം.

 ►ഡ്രെയിനേജ് ആവശ്യകതകൾ: ശുചീകരണ പ്രവർത്തനത്തിന് ശരിയായ ഡ്രെയിനേജ് പ്രധാനമാണ്.കൂടാതെ, ഡ്രെയിനേജ് സൗകര്യങ്ങൾക്ക് ഉയർന്ന ഡിസ്ചാർജ് താപനില കൈകാര്യം ചെയ്യാൻ കഴിയണം.

 ►പ്രോസസ്സിംഗ് സമയം: CIP സിസ്റ്റം പ്രവർത്തിപ്പിക്കുന്നതിന് ആവശ്യമായ സമയം ഡിമാൻഡ് നിറവേറ്റുന്നതിന് എത്ര വ്യക്തിഗത യൂണിറ്റുകൾ ആവശ്യമാണെന്ന് നിർണ്ണയിക്കുന്നു.

 ►അവശിഷ്ടങ്ങൾ: ക്ലീനിംഗ് പഠനങ്ങളിലൂടെ അവശിഷ്ടങ്ങളുടെ സ്വഭാവവും പ്രസക്തമായ ഉൽപ്പന്ന കോൺടാക്റ്റ് ഉപരിതലങ്ങൾ തിരിച്ചറിയുന്നതും പാരാമീറ്റർ വികസനത്തിന് സഹായിക്കുന്നു.ചില അവശിഷ്ടങ്ങൾ ശരിയായി വൃത്തിയാക്കാൻ വ്യത്യസ്ത ക്ലീനിംഗ് സൊല്യൂഷനുകളും സാന്ദ്രതയും താപനിലയും ആവശ്യമായി വന്നേക്കാം.പൊതുവായ ക്ലീനിംഗ് പാരാമീറ്ററുകൾ ഉപയോഗിച്ച് സർക്യൂട്ടുകൾ സംഘടിപ്പിക്കാൻ ഈ വിശകലനം സഹായിക്കും.

 ►സൊല്യൂഷൻ കോൺസൺട്രേഷനും തരവും: CIP സിസ്റ്റങ്ങൾ വ്യത്യസ്ത ആവശ്യങ്ങൾക്കായി വ്യത്യസ്ത ക്ലീനിംഗ് സൊല്യൂഷനുകളും കോൺസൺട്രേഷനുകളും ഉപയോഗിക്കുന്നു.ഉദാഹരണത്തിന്, കാസ്റ്റിക് സോഡ (കാസ്റ്റിക് സോഡ, സോഡിയം ഹൈഡ്രോക്സൈഡ് അല്ലെങ്കിൽ NaOH എന്നും അറിയപ്പെടുന്നു) 0.5 മുതൽ 2.0% വരെ സാന്ദ്രതയിൽ മിക്ക CIP സിസ്റ്റം സൈക്കിളുകളിലും ഒരു ക്ലീനിംഗ് ലായനിയായി ഉപയോഗിക്കുന്നു.ആൽക്കലൈൻ വാഷ് സൈക്കിളുകളിൽ 0.5% ശുപാർശ ചെയ്യുന്ന കോൺസൺട്രേഷനിൽ നൈട്രിക് ആസിഡ് ഡെസ്കാലിങ്ങിനും pH സ്ഥിരതയ്ക്കും ഉപയോഗിക്കുന്നു.കൂടാതെ, ഹൈപ്പോക്ലോറൈറ്റ് ലായനികൾ സാധാരണയായി അണുനാശിനികളായി ഉപയോഗിക്കുന്നു.

 ►ഉപകരണങ്ങളുടെ ഉപരിതല സവിശേഷതകൾ: സിഐപി സിസ്റ്റങ്ങളുടെ ആന്തരിക ഫിനിഷിംഗ് സിസ്റ്റത്തിനുള്ളിൽ പ്രോട്ടീനുകളുടെയും മറ്റ് മാലിന്യങ്ങളുടെയും ശേഖരണത്തെ സഹായിക്കുകയോ തടസ്സപ്പെടുത്തുകയോ ചെയ്യും.ഉദാഹരണത്തിന്, മെക്കാനിക്കൽ പോളിഷിംഗ് പ്രവർത്തനങ്ങൾക്ക് ഇലക്ട്രോപോളിഷിംഗ് പ്രവർത്തനങ്ങളേക്കാൾ പരുക്കൻ ഉപരിതലം സൃഷ്ടിക്കാൻ കഴിയും, ഇത് മെറ്റീരിയലിലേക്ക് ബാക്ടീരിയൽ ഒട്ടിപ്പിടിക്കാനുള്ള ഉയർന്ന അപകടസാധ്യത ഉണ്ടാക്കുന്നു.ഒരു ഉപരിതല ഫിനിഷ് തിരഞ്ഞെടുക്കുമ്പോൾ, ക്ലീനിംഗ് ഓപ്പറേഷൻ സമയത്ത് സംഭവിക്കുന്ന മെക്കാനിക്കൽ, കെമിക്കൽ കേടുപാടുകൾ കുറയ്ക്കുന്ന ഒന്ന് തിരഞ്ഞെടുക്കേണ്ടത് പ്രധാനമാണ്.

 ►ശുചീകരണ പ്രക്രിയയും ഷെഡ്യൂളും: ഉപകരണങ്ങളുടെ പരീക്ഷണാത്മക വ്യവസ്ഥകൾ അറിയുന്നത്, പ്രോസസ്സ് ഹോൾഡ് അല്ലെങ്കിൽ ട്രാൻസ്ഫർ സമയത്തെക്കുറിച്ചുള്ള ഉൾക്കാഴ്ച നൽകുന്നു.ട്രാൻസ്ഫർ ലൈനുകളും ടാങ്കുകളും ബന്ധിപ്പിച്ച് ദ്രുതഗതിയിലുള്ള ടേൺഅറൗണ്ട്, ക്ലീനിംഗ് ആവശ്യകതകൾ നിറവേറ്റുന്നതിന് CIP ലൂപ്പുകൾ രൂപീകരിക്കേണ്ടത് ആവശ്യമായി വന്നേക്കാം.

 ►സംക്രമണ മാനദണ്ഡം: പരിവർത്തന മാനദണ്ഡം നിർവചിക്കുന്നത് കീ ക്ലീനിംഗ് സൈക്കിൾ പാരാമീറ്ററുകൾ നിയന്ത്രിക്കുന്നതിനുള്ള ഒരു മാർഗം നൽകുന്നു.ഉദാഹരണത്തിന്, കെമിക്കൽ ക്ലീനിംഗ് ദൈർഘ്യം, ഏറ്റവും കുറഞ്ഞ താപനില സെറ്റ് പോയിൻ്റുകൾ, കോൺസൺട്രേഷൻ ടാർഗെറ്റുകൾ എന്നിവയെല്ലാം ക്ലീനിംഗ് സീക്വൻസിലെ അടുത്ത ഘട്ടത്തിലേക്ക് മാറുന്നതിന് മുമ്പ് ആവശ്യാനുസരണം സജ്ജീകരിക്കാം.

 ►ക്ലീനിംഗ് സീക്വൻസ്: സാധാരണഗതിയിൽ, ക്ലീനിംഗ് സൈക്കിൾ ഒരു വെള്ളം കഴുകുന്നതിലൂടെ ആരംഭിക്കണം, തുടർന്ന് ഒരു ഡിറ്റർജൻ്റ് വാഷും ഡിറ്റർജൻ്റ് പോസ്റ്റ് കഴുകലും.